EVG 770ナノインプリントシステム

ネゴシエーション可能更新03/19

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概要

EVG 770は、段階的かつ繰り返し動作するための紫外ナノインプリント装置であり、基板上に複雑な構造を効率的に作成することができる。ウェハレベル光学の製造およびEVG SmartNILプロセスに必要なマスター版に一般的に使用されている。

製品詳細

製品概要：

主な特徴とパラメータ：

・最大12インチ（300 mm）ウェハ対応

・最高解像度は50 nmまで（テンプレートとプロセス条件に依存）

・オプションのcassette-to-cassette上下

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