EVG 101塗布/スプレー/均質化システム

製品概要：

EVG 101は研究開発に適した単腔ウェハ塗布現像装置であり、スプレー、スピン塗布と現像に使用でき、3次元構造ウェハ上でレジストまたはポリマーの塗布を完成でき、高い均一性を維持することができる。

主な特徴とパラメータ：

・最大12インチ（300 mm）ウエハに適用可能

・手動装填、自動スプレー/スピンコーティング、自動洗浄チャンバ内残渣

・フォトレジストの適用範囲が広く、粘度が52000 cpに達することができる

・基板の最大回転数：10000 r/min