マスフローコントローラMFC

マスフローコントローラMFCTシリーズMFC

熱式センサー+低熱電磁弁+圧力センシング技術を採用主流の測定精度≦±1.0%S.P.（25%-100%F.S.）反復性対称業界製品（≦±0.2%F.S.）を満足する。

動作原理

• ねつしきそくていげんり：2つの温度センサーを利用して、1つはガスの初期温度を測定して、もう1つは加熱されたガスの温度を測定して、温度差を計算して、そしてガスの比熱容量を結合して、正確にガスの質量流量を計算して、圧力と温度の変化を補償する必要はなくて、測定精度を高めました1。

• 差圧式測定原理：圧力差式流量センサによりリアルタイムでスロットル素子を流れるガスの流れを測定する時に発生する圧力差からガスの体積流量を計算し、制御弁は流量センサの測定とフィードバックに基づいて、開度を正確に調整して、MFCを通過するガス流量がプリセット値と一致することを確保する2。

製品の特徴

• 高精度測定：先進的なセンサ技術と製造技術を採用し、高精度のガス流量測定と制御を実現でき、測定誤差は±0.5%示度まで低く、繰り返し性は±0.1%に達し、半導体などのgaoduan分野のナノスケール流量変動に対する厳しい要求を満たす3。

• 迅速な応答：PIDコントローラと高速電磁弁を備え、これらのコンポーネントはミリ秒級の時間内に流量の偏差を修正することができ、応答時間は通常100 ms未満で、適時に各種の動態変化に対応でき、流量の安定を確保することができる1。

• 広いレンジ：レンジカバー範囲が広く、微小流量から高流速シーンまで適用でき、例えば0.1 sccmから20000 slpmの範囲をカバーでき、異なる応用シーンの需要を満たすことができる3。

• たじゅうガスごかんせい：Nタンパ、Ar、Hタンパ、SiHタンパ、NHタンパ、CFタンパなどの多くのガスの正確な測定と制御を支持し、多ガス校正技術を通じて、異なるガス測定時に高精度を維持できることを確保する14。

• 良好な安定性：センサーや加熱素子などの重要な部品は通常恒温制御技術を採用し、温度ドリフトが測定精度に与える影響を低減する。同時に、レーザー溶接技術を用いて流路を製造し、漏れ現象の発生を効果的に回避し、それによって測定結果の正確性と長期安定性を保証する1。

• 複数の通信インタフェース：RS 485、Profibusなどの通信インタフェースを搭載し、タッチパネルのリアルタイム表示温度、圧力、標準状況/モード流量などのパラメータをサポートし、ユーザーが遠隔操作と監視を容易にし、各種自動化制御システムと統合することができる3。

応用分野4

• 半導体と電子製造：ウエハ加工、薄膜堆積（CVD/PVD）とエッチング（Etching）などのプロセスにおいて、反応ガスの流量を正確に制御し、プロセスの安定性とチップの性能を確保する。

• 化学工業と製薬業界：化学反応過程において反応器中の気体の流量、例えばOガリウム、COガリウムなどを制御し、反応速度と生成物品質を最適化するために使用する。

• 新エネルギー・燃料電池生産：水素ガスと酸素ガスの入力流量を調節し、電気化学反応効率と電池出力を最適化すると同時に、電解過程における酸素ガスと水素ガスの分離と流量を制御し、COタンパ捕捉と圧縮過程におけるガス流量を管理することにも用いることができる。

• 環境モニタリングと実験室：ガスクロマトグラフィー（GC）、質量分析計（MS）などの設備に標準ガス流量を提供し、またPM 2.5、VOCs検査などの環境モニタリング設備のガスサンプリング流量を精密に制御することに用いることができる。