独立温度制御平行合成反応器

個別温度制御平行合成反応器の詳細パラメータ

主な構成機能

反応温度範囲が広く、−40℃〜250℃からの温度制御が可能であり、高低温合成反応が可能である。

5 ml ~ 1000 mlの大容量範囲からの合成反応を実現することができる。

複数の反応ビットが独立して温度制御可能である（1/2/3/4/5ビット）、高精度な温度制御を実現

各反応タイミングを選択可能制御（オプション）、より多くの合成反応に適用される温度制御条件。

7 mm以下の直径の攪拌棒を配置でき、攪拌棒はロッドを通して取り付けられ、テトラフルオロ攪拌プラグを配合することで真空引き状態での攪拌を実現できる

設計上の利点

多連平行反応釜の設計方案を採用し、各反応ユニットは独立に温度制御、独立に攪拌速度を制御することができる

備わる低温循環下の温度制御設計機能により、合成反応中の発熱を除去

各反応ユニットは、合成ニーズに応じて異なる反応容器を選択することができ、ガス置換、還流、強磁力攪拌、トップセット攪拌、サンプル添加機能を備える

反応ユニット毎に強磁力攪拌と機械攪拌方式を備える