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sales@grantlab.com.cn
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18510859188
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北京市朝陽区広順南大街東亜望京中心A座1011
北京賦諾科技発展有限公司
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VariGATR は™すれすれかくATR の
VariGATR は™すれすれかくATR の付属品は半導体と金属基板上の単層を分析する最適化方法である。VariGATR は™可変角度であるため、これらのタイプのサンプルの*高感度を得るために入射角を最適化することができます。その専用設計の圧力印加器は最適化され、サンプルとゲ ATR結晶間は良好な接触を提供する。VariGATR は™高速で反復可能な測定に最適で、スキュー放射角法に比べて感度が少なくとも1桁向上しています。また、使いやすく完全にプリアライメントされた水平サンプリングアタッチメントの便利さも提供します。
特徴
便利な水平サンプリング表面。
スライドクラッチ付き圧力印加器を内蔵し、繰り返し圧力を印加することができる。
から60に着く65ザグの連続可変角度により、*大感度の最適化を実現できます。
バックフラッシュ防止メカニズムにより、**、繰り返し可能な角度選択が可能になります。
ゲルマニウムATR の結晶体
収容可能直径は超えない8インチのサンプルで、中心サンプリングのディスク直径は6インチです。
パーマパージュ™高速パージシステムに使用します。
オプションは次のとおりです。
スペクトルコントラストと方向研究を強化するためのワイヤグリッド偏光子。
スライド取付フレームを含む
**が加えられた力を測定して実現するためのデジタル示度を持つ力センサATR の結晶と試料との接触。
低トルクスライドクラッチを提供する。