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ハンドミル

ネゴシエーション可能更新03/20
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概要
製品紹介:手動精密研磨器MGG 1は迅速に平面研磨を行うことができ、サンプルの厚さを正確に制御する。
製品詳細
サンプリング装置 トップページ・・・製品センター・・・製本設備
ハンドミル
製品紹介:
手動精密研磨器MGG 1は迅速に平面研磨を行うことができ、サンプルの厚さを正確に制御することができる。

ハンドミルMDG1技術仕様書


TEM透過試料がイオン薄化処理に入る前に、試料を平らで均一で薄い試料に処理する必要があり、予備薄化と呼ばれる。予備薄化または研磨工程は、後続のイオン薄化の効率と品質を高めるのに役立つ。

手動精密研磨器MGG 1は迅速に平面研磨を行うことができ、サンプルの厚さを正確に制御することができる。

製品の特徴


1.大径、均一、平行な研磨面を得ることができ、次の工程で大面積ナノスケールの薄い領域を得ることが便利である。

2.試料の最終厚さをマイクロメータで精密に制御し、スケールに表示し、精度は10 um(オプションで1 um精度)である。

3.研磨器自身の重量は研磨時に必要な圧力とし、オペレータは研磨器を容易に支持するだけで、サンプル研磨中の力は均一で柔らかく、サンプル機械損傷を回避する。

4.直径がプラセオジム15 mm未満の平面試料を、10 umを超える厚さ(実際の限界厚さは材料と研磨サンプルのレベルに依存する)を迅速かつ高複雑に得ることができる。

5.材料科学、電子製品サンプルの調製処理過程に広く用いられる。



製品仕様

グラインダ外形寸法

ø75 x 45H

サンプルコラム

3Xø18mm

サンプル最大直径

≤15mm

じゅうりょう

1.5kg

品質保証

1





使用方法


ゼロキャリブレーション


1.サンプルカラムを取り出し(この時点ではサンプルは置かれていない)、ベース内に入れる。

2.ハンドルを回転させ、試料柱がすべて穴に戻され、端面が研磨盤表面よりやや低くなるまで試料柱を後退させてください。

3.試料カラムの周囲の研磨ディスク表面に水滴(3〜4滴でよい)を垂らし、平らなガラスシートで覆い、水滴はガラスと研磨ディスクの中間に均一に押し込まれた。

4.ゆっくりとハンドルを回してサンプルカラムを出し、ガラスの下の水が動き始めるのが観察されたら、すぐに停止する。このとき、試料柱の先端がガラスに触れ、すなわち試料柱の先端が研磨盤の表面と同じ平面にある。

5.ダイヤルをハンドルポインタにゼロビット回転させ、これでゼロビットの設定が完了します。ダイヤルのネジをロックする。


サンプルの取り付け


1.試料カラムを取り出し、きれいに洗浄し、加熱テーブルの上に置き、130ºCまで加熱する(温度は200ºCを超えてはいけない)

2.少量のパラフィンワックスを採取し、サンプルカラムの先端に置き、溶融して使用する。

3.サンプルをサンプルカラム上に置き、軽く押して気泡を排除し、サンプルとサンプルカラムを緊密に結合させる。

4.サンプルカラムを常温環境に除去し、パラフィンを冷却する。サンプルはサンプルカラムに確実に接着され、サンプルの取り付けが完了します。


研磨サンプル


1.サンプルカラム(端部がサンプルを搬送する)をベース内に積載し、ハンドルを回転させてサンプルを少し露出させる。

2.サンプルを研磨し、8字型運動回路を用いて研磨サンプルをより均一にすることを提案する。

3.試料を加熱除去し、反転して試料カラムに再装填する。装填方法は同上である。

4.サンプルを基台内に再積載し、ハンドルを調整して、最終的に必要な厚さ(通常は50 um、サンプル材料自体と研磨プロセスに応じて)が得られるまで、各供給研磨量を制御する。


サンプルを取り出す


  1. サンプルカラムを回転させて押し出し、慎重に取り出して、サンプルを損傷から保護します。
  2. サンプルカラムを加熱し、ピンセットを用いてサンプルを取り出した。サンプルが異常に脆弱であれば、サンプルカラム及びサンプルをアセトンに30分入れて溶解して取り出すことができる。
  3. サンプルをクロロホルムまたはアセトンに入れてパラフィンを十分に溶解し、きれいなサンプルを得た。


警告:試料柱とベース穴の嵌合隙間は非常に小さいので、試料柱の側面を清潔にして、引っかからないようにしてください。