HX-635汚染源排ガス組合せサンプリングシステム

製品の説明

本製品は加熱サンプリング管、加熱箱、水浴箱、シャントコントローラなどを組み合わせたものである。塩化水素、フッ化水素、硫酸霧などの工場汚染源から排出されたこれらの物質を生産または使用して濾過、加熱処理を行い、最後に吸収瓶に入って吸収し、収集分析の目的を達成する。

実行基準

HJ 544-2016「固定汚染源排ガス硫酸ミストの測定イオンクロマトグラフィー」

HJ 549-2016「環境空気と排ガス塩化水素の測定イオンクロマトグラフィー」

HJ 688-2013「固定汚染源排ガスフッ化水素の測定イオンクロマトグラフィー（暫定）」

製品の特徴

»システム全体は4つの部分に分かれている：サンプリング管、加熱箱、水浴箱、分流制御器、体積が小さく、組み合わせが便利

»加熱ボックスは90°回転可能で、水平モードと垂直モードに適しており、プラットフォーム上に置くこともできます

»このサンプリングシステムは3種類の排気ガスのサンプリング方式を融合し、関連部品間の自由な組み合わせはそれぞれ硫酸ミスト、フッ化水素、

塩化水素のサンプリング

»サンプリングチューブはチタン合金で製造され、酸性物質の腐食を効果的に防止することができる

»サンプリング管はガラス管を内張りし、排気ガスはサンプリングノズルを経てサンプリング管の尾から出て、全過程で金属と接触しない

»ガス路接続全体に輸入耐酸アルカリ、耐高温ライニングPTFEシリカゲルホースを採用する

»サンプリング管の最高加熱温度は190℃に達することができ、加熱箱の最高加熱温度は150℃に達することができ、排気ガスの凝縮を効果的に防止する

»このシステムにはピトー管が搭載されており、定電流サンプリングと等速サンプリングの両方が可能

»ミニサーマルプリンタを構成し、作業データを随時印刷する

»システムは交流220 V給電を採用する

技術指標

主なパラメータパラメータ範囲の解像度精度

サンプリング管加熱温度（0〜190）℃1℃が±3℃を超えない

加熱箱加熱温度（0～150）℃1℃が±3℃を超えない

ガラスサンプリングエルボ仕様4.5 mm、6 mm、7 mm、8 mm、10 mm、12 mm

サンプリング管耐温≦250℃

動作電源AC 220 V±10%、50 Hz