四方計器のその場レーザガスモニタリング技術による工業過程の分析による品質向上と効果向上

製品名称：その場レーザープロセスガス分析器

製品型番：GasTDL-3100

その場レーザ過程ガス分析器GasTDL-3100は可変同調半導体レーザ吸収分光技術（TDLAS）に基づく高性能光学分析装置であり、対射式設計を採用し、工業過程ガス制御に用いることができる、その応答時間は迅速で、その場式測定では一般的に秒で計算し、サンプリング式測定による時間遅延を回避し、オンラインでタイムリーな反応測定ガス濃度を可能にする。

その場レーザープロセスガス分析器製品の特性：

1、TDLAS技術を採用し、被測定ガスは背景ガスの交差干渉を受けない

2、その場で設置し、サンプリング前処理システムを必要としない

3、応答が速く（T 90≦4 s）、リアルタイム反応ガス濃度

4、リアルタイムオンライン測定、ガス濃度は歪みにくく、測定精度が高い

5、高温、高粉塵、高水分、高腐食性、高流速などの劣悪な測定環境下で良好な適応性を持つ

6、防爆設計、安全係数が高い

7、構造が簡潔で、可動部品がなく、損失部品がなく、メンテナンスフリー

その場レーザープロセスガス分析器技術パラメータ：

測定可能：O 2、CO、CO 2、CH 4*ガス成分

*注記：各分析計は単一成分ガス濃度を測定する。