10月16日、深セン市中図計器株式会社が主催した座標測定機技術交流会及びGB/T 16857.5国家標準第3回討論会が深センで成功裏に開催された。今回の会議には、全国製品幾何技術規範標準化技術委員会、中国計量科学研究院、中国科学院マイクロエレクトロニクス研究所、合肥工業大学、英国国家未来計量実験室、深セン市中図計器株式会社などの単位から座標測定技術分野の専門家、学者、企業代表が集まり、業界の新技術動態を深く検討し、重要な国家標準の技術内容について討論し、我が国の精密測定技術の規範化と高品質発展を推進するために新運動エネルギーを注入することを目的としている。

標準的な検討を深め、技術基盤を打ち固める

会議の議事日程は内容が豊富で深い。会議に参加した専門家、学者及び企業代表は座標測定機の最前線技術について広範な交流を行い、大規模空間レーザー追跡測定技術及び応用、特定任務に向けた座標測定機追跡技術、マイクロナノ三座標測定機などの最前線話題をめぐって、最新の研究成果と製品紹介をもたらした。ゲストの皆さんの素晴らしい共有を通じて、私たちは技術発展の「精度」が向上していることを見ただけでなく、その応用の「広さ」と「深さ」の無限の可能性を見た。

その後、会議は核心段階に入った――『GB/T 16857.5製品幾何技術規範（GPS）座標測定システム（CMS）の検収測定と再検査測定の第5部：単一プローブ或いは多プローブ、離散点及び/又は走査測定モードを用いた接触式プローブシステムの座標測定機』国家標準技術内容に対して第3回集中討論を行った。

この基準は座標測定機（CMM）分野において極めて重要な規範であり、それは接触式プローブシステム（単プローブ、多プローブ及び離散点とスキャンモードを含む）を用いた座標測定機の検収検出と再検査検出方法を明確に規定している。測定技術の急速な発展に伴い、マルチプローブと高速走査技術の応用はますます広くなり、既存の基準に対して新たな要求を提出した。会議に参加した専門家たちは、標準における技術の詳細、検査プロセスの厳密性、および新技術モデルの適応性などの重要な問題について熱烈で建設的な討論を展開し、標準のさらなる改善のために堅固な基礎を築いた。今回の討論は業界の検査基準を統一し、座標測定機の精度と信頼性を保障し、装備製造業の品質向上を促進することに深い意義がある。

現地を見学し交流し、国産の力を目撃する

当日の午後、参加した代表たちは中図計器展示室に移動して見学交流を行った。国産自主化三座標測定機の代表的な企業として、中図計器は出席者に精密測定分野での最新の研究開発成果と製造実力を全面的に示した。展示室内に陳列された高性能三座標測定機、レーザートラッカー、非球面検出輪郭計、AI映像計、フラッシュ測定器、白色光干渉計などの核心製品は、その測定精度、安定した性能表現及び先進的なソフトウェアシステムで、見学者に深い印象を残した。

実地見学と深い技術交流を通じて、会議に参加した代表たちは中国が座標測定装備分野で得た画期的な進展を肌で感じた。中図計器の核心技術における自主研究開発と革新は、「中国智造」の精密測定分野における強力な競争力と巨大な潜在力を明らかにした。

今回の技術交流会と国家基準の検討は、業界内の技術交流と協力のためにプラットフォームを構築しただけでなく、実地調査を通じて、業界の国産座標測定技術の発展に対する自信を高めた。標準の整備は技術の革新と相補的であり、今回の会議の順調な開催は、我が国が座標測定分野の標準化作業と産業自主化プロセスの上でまた堅固な一歩を踏み出したことを示しており、我が国の製造業が高品質、高精度の方向に持続的に邁進することを力強く推進するに違いない。