レーザー干渉測定技術は感度が高く、距離が大きく、劣悪な環境に適応できるなどの利点があり、光波は直接米を定義でき、追跡しやすい。中図計器が自己研究したPLR 3000シリーズ光ファイバレーザ定規はレーザ干渉測定原理に基づいて、高精度、高感度、高効率高速の先進的な位置検出装置であり、非接触高精度測定分野で優位性があり、伝統的な鋼帯定規やガラス格子に比べて、より正確な格子距離とより高い解像度を備えていると同時に、その熱源隔離設計は、より高い安定性を保証し、同時に設置が迅速で、正確でありやすいなどの特徴があり、マイクロ電子、マイクロ機械、マイクロ光学などの現代の超精密加工製造、フォトリソグラフィ技術及び航空宇宙などのハイテク分野で広く応用されている。

ファイバレーザ尺組成

光ファイバレーザ定規は、レーザ発光装置、干渉測定プローブ、ミラーなどの部分から構成されている。

1.レーザ発光装置

レーザー発光装置は高安定度ヘリウムネオンレーザー光源を内蔵し、周波数安定精度は0.05 ppm（オプションで0.02 ppm）である。シース光ファイバを通じてレーザー光を干渉測定プローブに伝導し、熱源と測定プローブの隔離を実現する。レーザー送信装置は高精度信号処理システムを内蔵し、ユーザーが解像度を設定できるリアルタイムRS 422デジタル直交信号と直交アナログ信号を直接出力することができ、USB-SDKによる二次開発も可能である。

2.干渉測定プローブ

2.1.差分干渉（DI）プローブ

差分干渉プローブは2本のレーザ光（参照光と測定光）を出力し、それぞれ固定平面反射鏡と移動平面反射鏡を経て反射し、光学4倍周波を実現し、より高いシステム分解能とより小さい非線形誤差を有する。特にZ軸支柱と運動プラットフォーム間の相対運動を測定するのに適しており、内壁の熱ドリフトと支柱の振動/移動による誤差を解消し、ナノスケール精度スキームの選択である。

2.2.平面鏡干渉（PI）プローブ

平面鏡干渉プローブは二光路干渉システムを採用し、平面反射鏡と合わせて、光学四倍周波を実現し、より高いシステム解像度を持ち、二軸システムを使用し、長尺平面反射鏡を組み合わせて、特にXYプラットフォーム運動制御及び測定応用に適している。0°、90°の2種類の出光構成を提供します。

2.3.角錐プリズム干渉（RI）プローブ

角錐プリズム干渉プローブは、設置が便利で、精度が高く、一軸線形測定または位置フィードバックに適しており、測定距離は10メートルに達し、40メートルカスタマイズでき、運動定位と設備校正に広く応用されている。0°、90°の2種類の出光構成を提供します。

光ファイバレーザー定規技術の特徴

1.高精度測定：線形測定精度は0.5 ppmに達することができ、

2.高レーザ安定精度：レーザ周波数安定度0.05 ppm（オプションで0.02 ppm）

3.高解像度：固有解像度は最高10 nmに達し、異なる解像度を配置でき、さらに細分化を広げ、より高い解像度を実現できる。

4.高速測定：最大測定速度は2000 mm/s以上に達することができる、

5.距離の長さ：測定距離は4 m以上に達することができ、40 mをカスタマイズすることができる、

6.取り付けが簡便で、正確になりやすい：体積が小さく、取り付けが柔軟で、アッベ誤差を大幅に低減できる、干渉プローブは角度調整装置を配置し、ビームのコリメートを容易に実現する、

7.測定光路熱源隔離：レーザー発光装置と測定プローブは分離し、プローブは熱源がなく、ホストコンピュータの放熱が測定通路に与える影響を避けることができる、

8.多チャンネル出力：最大3ウェイプローブを同時に接続でき、多軸同時測定と多自由度測定を簡単に実現できる、

9.出力インタフェースは多様：ホスト出力インタフェースはUSBインタフェースと位置出力インタフェースを含み、位置出力インタフェースは差分TTL（RS-422/EIA-422）、正余弦信号（SinCos 1 Vpp）、USB-SDKがある。

光ファイバレーザ定規の応用検証

PLR 3000シリーズ光ファイバレーザ定規はすでに複数のクライアントで精度検証を行っている：差分干渉（DI）プローブを用いて高精度ナノ変位テーブルを閉ループ制御し、10 mm行程内の任意の位置でナノスケール位置制御精度を実現する。