真空計汚染の原因

主に次の点があります。

一、プロセス要素

1.真空システム中の残留ガス：真空システムが使用前に十分に洗浄と真空引きされていない場合、残留ガスには油蒸気、水蒸気、ほこりなどの各種不純物が含まれている可能性がある。これらの不純物は一定の条件下で真空計に堆積し、汚染を引き起こす。

2.プロセスガスの逆拡散：一部の真空プロセスでは、使用されるプロセスガスが圧力差により真空計のある領域に逆拡散する可能性がある。プロセスガスに凝結しやすい成分や吸着しやすい成分が含まれていると、真空計が汚染される。例えば、フッ素含有ガスを使用するプロセスでは、フッ素化物が真空計の表面に堆積する可能性がある。

二、設備メンテナンス要素

1.密封不良：真空計と真空システムの接続部の密封不良がある場合、外部の空気と不純物がシステムに入り、真空計を汚染する可能性がある。例えば、シールワッシャの劣化、破損、または取り付けの不適切さは、シールの失効を引き起こす可能性があります。

2.メンテナンスの不適切：真空システムのメンテナンスと点検を行う時、操作が不適切であれば、汚染物を導入する可能性もある。例えば、真空計を交換したり修理したりする際に、ほこりや油脂などの不純物がシステムに入るように適切な防護措置を取らなかった。

三、環境要素

1.空気中のほこりと不純物：真空システムが密封状態であっても、微小な漏れ通路を通じて外部環境と連通する可能性がある。空気中のほこり、水蒸気、その他の不純物が徐々にシステムに浸透し、真空計を汚染する可能性がある。

2.温度と湿度の変化：温度と湿度の変化は真空システム中の材料が気体を放出したり、水分を吸着したりする可能性があり、それによってシステム中の不純物含有量を増加させ、真空計を汚染する。例えば、温度変化が大きい環境では、いくつかの材料が熱膨張・冷縮し、シールを破壊し、外部不純物を導入する可能性があります。