2025年9月4日、注目されている第13回半導体デバイス材料とコア部品の展示会が無錫太湖国際博覧センターで盛大に開催された。今回の半導体デバイス年次総会は「中国のコアを強くし、コアの世界を抱擁する」をテーマに、半導体デバイスメーカー、センサー製造企業及び産業チェーンの上下流企業、科学研究院所の専門家と学者を集め、最新の科学研究成果と実際の応用例を分かち合い、技術革新によるエネルギー産業のグレードアップ方法を共同で探求した。



KANOMAX携帯塵埃粒子計数器、熱式風速計、風速トランスミッタ、微小差圧計などの測定機器がB 3-328ブースに登場した。









ブースの前には人の流れが押し寄せ、半導体材料企業の研究開発者、Fab工場の技術責任者が続々と足を止めて相談し、加野スタッフは辛抱強く機械の性能特徴、応用シーンを丁寧に紹介し、そして現場で製品のデモを行い、製品の優れた性能を直感的に感じさせた。





半導体製造環境におけるパーティクルカウンタの適用
半導体チップの製造過程において、生産環境の清浄度に対する要求が高く、粉塵粒子、プロセス偏差などの要素による結晶短絡や断路を禁止し、浄化環境下の作業現場における超微小粒子状物質の数量を制御し、製品の品質を保証し、製品の良率を向上させなければならない。



半導体チップの製造過程において、粒子カウンタは主に：
1.Fab工場の製造プロセス検査：ウエハのリソグラフィ、塗布現像、エッチングなどの複数のプロセスの一環で、粒子カウンタを使用して環境中の塵埃粒子を検査し、プロセスの正確性を確保する。
2.カプセル化過程：ウェハ切断カプセル化過程において、粒子カウンタも重要な役割を果たし、カプセル化品質を保証する。
3.半導体装置の生産プロセスの品質モニタリング：粒子カウンタを通じて設備プロセスポイントをモニタリングし、生産プロセスの安定性と製品品質を確保する。



超小型塵埃粒子カウンタ3950は、半導体チップの製造環境のために設計され、0.1μmと0.3μmの微小粒子を正確に監視することができ、軽量化と小型化の利点を備えており、センサ埋め込み生産設備がリアルタイムで作業現場を監視する超微粒子としても利用でき、クリーン化作業環境のクリーン度評価に信頼性のある根拠を提供している。0.1μm級の精密検査技術により、「中国コア」製造のミクロ段階ごとに品質防御線を構築した。




半導体製造環境における風速計の使用
半導体製造において、現像、エッチング、切断などの重要なプロセスの一環であり、その環境風速（クリーンルーム及び設備内部の局所風速）はプロセス精度、良率及び製品信頼性に直接影響する。合理的な風速エネルギーは安定した「層流/乱流場」を形成し、微粒子（例えばレジスト残渣、副生成物のエッチング、粉塵の切断）を持ち帰り、それがウエハ表面に付着して欠陥を招くことを避ける、
同時に、風速異常（高すぎ／低すぎ／ムラ）は直接良率損失を引き起こす。例えば、リソグラフィ段階の風速変動5%は線幅偏差0.03μm（7 nmプロセス線幅偏差許容値0.02μmのみ）を招き、直接チップの故障を引き起こす可能性がある。



塗布現像装置は生産環境の清浄度に対する要求が高く、特にレジスト塗布と現像過程において、微小粒子の汚染はレジストパターンの欠陥を招き、チップの性能に影響を与える可能性がある。ファンフィルタユニット（FFU）の高効率フィルタ（HEPAやULPAなど）を通じて清浄な空気を提供し、環境中の粒子状物質を効果的に除去し、ウエハ表面に汚染がないことを確保し、それによってリソグラフィパターンの精度と歩留まりを高める必要がある。



KANOMAX環境試験器65 Serは清浄室及び設備内部の風速変化を正確に捉えることができ、微小な風速変動であれ局所領域の風速差異であれ、同時に風速、温度、湿度、圧力、入力配管断面の形状及び寸法を測定して風量を算出し、8種類のプローブを選択することができ、高精度、プローブ交換性、安定性、操作性及びマルチパラメータ測定表示などの特徴によって半導体製造設備業界で広く応用されている。



KANOMAXは半導体クリーン技術の分野で長年にわたって深耕し、多くの顧客から信頼と認可を得てきた。会社は持続的に研究開発への投入を増やし、競争力のある新製品と新技術を絶えず発売し、市場の絶え間ない変化とグレードアップの需要を満たし、半導体産業の発展と進歩を推進するためにより大きな貢献をする。
加野KANOMAXブースにご来場いただきありがとうございました。明日も素晴らしい続きで、半導体業界の発展の新たな道のりを共に目撃しましょう！